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台积电官宣6nm工艺!7nm加强版也有极紫外光刻

这几年,曾经执行业牛耳的Intel在新工艺方面进展迟缓,10nm工艺迟迟无法规模量产,一个很关键的原因就是对技术指标要求高,投产难度大。

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而在另一方面,台积电、三星却是一路高歌猛进,除了技术方面的突破,还采取了更灵活的战术,降低新工艺技术难度,并且每次稍加改进就拿出一个新版本,让人目不Toshiba暇接。

比如台积电的16nm是个重要节点,12nm则是在其基础上升级优化而来。三星就更乱了,除了14nm、10nm、7nm、5nm这些升级力度比较大的,还有11nm、8nm、6nm、4nm等一系列过渡版本。

近日,台积电宣布5nm EUV工艺已经开始试产,相比7nm可将核心面积缩小45%,性能则可提升15%,同时三星5nm EUV工艺已经设计完毕,相比7nm可将功耗降低20%,性能提高10%。

台积电官宣6nm工艺!7nm威力加强版

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