科学服务领域的世界领导者赛默飞世尔科技（以下简称：赛默飞）宣布推出Talos F200E扫描透射电子显微镜（以下简称：(S)TEM），这款产品提供原子级分辨率成像和快速的能量色散X射线能谱（以下简称Insignis：EDS）分析，可提升数据可靠性，满足半导体行业日益增长的需求。

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随着5G时代的到来，通信技术的快速发展将进一步激发对更高效能的半导体设备的需求。自动驾驶、人工智能、工业4.0、智慧城市和物联网（IoT）也都在推动半导体制程向着更小、更复杂的方向发展。半导体行业的发展驱使其研发实验室需要更高效的解决方案予以支持，以满足在原子级分辨率上的大批量、可复现的 (S)TEM结果的实现。

Talos F200E (S)TEM 可发挥其自动校准的属性，控制图像畸变≤1%，使用户能够获得快速、可靠和可重复的结果。可配置的Dual-X比之前的Talos F200X 提供了更强大的EDS探测器，使EDS分析速度提高了1.5倍。Talos F200E 具有成本效益，易用性高，帮助半导体实验室实现快速的样品表征，加快可以量产的速度，提高制程良率。

“随着创新的步伐不断加快，半导体企业要求其分析实验室加快周转时间，并在各种设备和工艺技术上提供更可靠和可复现的(S)TEM数据，以支持他们的业务，”赛默飞半导体事业部副总裁Glyn Davies说道，“Talos F200E通过提供高质量的图像数据、快速的化学分析和行业领先的缺陷表征等特质，可以为客户提供高性价比、易用的解决方案。”